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Un sistema per applicazioni scientifiche e di processo ad alta precisione

Misura la pressione parziale di gas residui con precisione ultra elevata e un range di masse estendibile opzionalmente a 1000 AMU

I sistemi HAL 3F RC sono progettati per l'analisi dei gas in applicazioni scientifiche e processi che richiedono elevata precisione.

Sommario

Il triplo filtro a quadrupolo minimizza la contaminazione di ioni non voluti, mentre i filtri RF pre e post lavorano a frequenze diverse da quella del filtro di massa principale. In combinazione con il filtro di massa più lungo e un diametro dei poli di 9mm, si ottiene una risoluzione migliore, elevata sensibilità agli ioni, stabilità per misure di precisione/rapporto e una elevata trasmissione di massa.

Caratteristiche

Specifiche

Range di massa

50, 300, 510, o 1000 amu

Minima concentrazione rilevabile

2 x 10-14  mbar 

Sorgente di ioni

Varie sorgenti a impatto elettronico

Controllo della sorgente di ioni

Si

Emissione elettronica

Controllabile via software da 1µA a 2mA

Energia degli elettroni

Controllabile via software da 0V a 150 eV

Energia degli ioni

Controllabile via software da 0V a 10 eV

Detector

Coppa di Faraday o moltiplicatore di elettroni

Flangia di montaggio dell'analizzatore

 

Poli da 6 mm

Poli da 9 mm

DN-63-CF (4.5"/114mm OD Conflat type) 

DN-100-CF (6"/150mm OD Conflat type)

Adattatore per poli da 6mm

Adattatore per poli da 9mm

DN-35-CF (2.75”/70mm OD Conflat type)

DN-63-CF (4.5”/114mm OD Conflat type)